半导体微电子晶圆与精密光学器件兆声波清洗案例
针对半导体硅片、微纳传感器及精密光学镀膜镜片对无损清洗的严苛要求，舒美研发的KQ-MSE系列兆声波清洗设备采用高频声波耦合技术，在避免传统低频空化冲击损伤敏感微结构的同时，高效剥离工件表面的亚微米级颗粒与有机残留，满足高洁净度超净间工艺标准。
针对半导体硅片、微纳传感器及精密光学镀膜镜片对无损清洗的严苛要求，舒美研发的KQ-MSE系列兆声波清洗设备采用高频声波耦合技术，在避免传统低频空化冲击损伤敏感微结构的同时，高效剥离工件表面的亚微米级颗粒与有机残留，满足高洁净度超净间工艺标准。