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产品展示

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超声波设备

KQ-400MSE兆声波清洗机产品介绍


产品名称:KQ-400MSE兆声波清洗机产品介绍

简介:KQ-400MSE是兆声波清洗机MSE系列中的中间容量型号,以320×320×150mm方形槽体和15L容量,在实验室小批量(KQ-300CE,10L)与产业大批量(KQ-500MSE,24L)之间提供了均衡过渡的中批量精密清洗方案。设备配备0.5/1.0/1.7MHz可选单频兆声频率、400W超声功率、500W加热系统、7寸TFT全彩触控操作界面、间歇脱气功能和9组程序存储,不锈钢烤漆外壳,整机外形410×410×325mm。KQ-400MSE以320mm方形槽体对多种方形精密工件(晶圆盒、光学基板等)提供良好适配,适合精密制造中小型企业、研发中试产线以及有洁净度要求的中批量精密清洗应用场景。


产品详情


KQ-400MSE兆声波清洗机产品介绍

KQ-400MSE是兆声波清洗机MSE系列中的中间容量型号,以320×320×150mm方形槽体和15L容量,在实验室小批量(KQ-300CE,10L)与产业大批量(KQ-500MSE,24L)之间提供了均衡过渡的中批量精密清洗方案。设备配备0.5/1.0/1.7MHz可选单频兆声频率、400W超声功率、500W加热系统、7寸TFT全彩触控操作界面、间歇脱气功能和9组程序存储,不锈钢烤漆外壳,整机外形410×410×325mm。KQ-400MSE以320mm方形槽体对多种方形精密工件(晶圆盒、光学基板等)提供良好适配,适合精密制造中小型企业、研发中试产线以及有洁净度要求的中批量精密清洗应用场景。

320×320mm方槽的中批量均衡定位

KQ-400MSE的内槽尺寸320×320mm在MSE系列方槽产品中处于中间档位。这一尺寸相比KQ-500MSE(400×400mm)更为紧凑,设备占地从500×500mm缩减至410×410mm,节省约33%的台面面积;相比KQ-300CE(250×250mm)又有明显扩展,批量处理能力提升约65%。对于既不需要最大批量的产业产线、又超出实验室规模需求的中型制造场景,320×320mm槽体提供了恰当的处理规模——在紧凑设备尺寸内实现适度的批量清洗能力,投资和运营成本更加合理。

KQ-400MSE 槽体规格

内槽长 320mm

内槽宽 320mm

内槽深 150mm

容量 15L

320×320mm 方形对称槽体 · 15L中等容量 · 整机仅 410×410mm

15L的容量对于中小规模精密制造应用来说容量充裕——每批次可以放置标准晶圆承载架、多片光学基板或数件精密工件,满足中试产线或中小型工厂的日常清洗需求。方形槽体对方形载具(如标准晶圆盒、方形基板载架)的空间适配性优于矩形槽,工件摆放更加规整,有助于提高声场作用的均匀性。320mm的方槽边长能够容纳6英寸(150mm直径)晶圆的整批标准装载盒,也能放置多片中等尺寸的方形光学基板,覆盖了精密制造中最常见的工件尺寸范围,工件适配性广

产品技术规格

技术参数详细说明
产品型号KQ-400MSE
外形尺寸410×410×325mm(方形中型台式)
内槽尺寸320×320×150mm(中型正方形槽体)
有效容量15L(中批量容量)
超声功率400W
加热功率500W
温度范围室温-80℃
工作时间1min-99h59min
间歇/脱气时间1s-59min59s可调
控制方式7寸TFT全彩触控屏
程序存储9组用户自定义设定
外壳材质不锈钢烤漆,耐腐蚀抗氧化
标准配置不锈钢托架、手控进排水
工作电源AC220V/50Hz
兆声频率可选0.5MHz / 1.0MHz / 1.7MHz(单频)

MSE方槽系列完整产品线对比

兆声波MSE方槽系列产品线对比:

型号内槽尺寸容量超声功率加热功率整机尺寸定位
KQ-300CE250×250×150mm10L240W500W340×340mm实验室/科研
KQ-400MSE320×320×150mm15L400W500W410×410mm中批量精密
KQ-500MSE400×400×150mm24L500W1000W500×500mm产业大批量

▲ KQ-400MSE 在MSE系列中承上启下,超声功率高于科研级KQ-300CE(+67%),整机尺寸小于产业级KQ-500MSE(-33%),是中批量精密制造的均衡之选。

KQ-400MSE 与 KQ-400CE 的区别说明:两款产品内槽尺寸相同(320×320×150mm),容量相同(15L),整机尺寸相同(410×410×325mm),加热功率相同(500W)。核心区别在于:KQ-400CE 超声功率为360W(0-100%连续可调),KQ-400MSE 超声功率为400W(固定额定功率);KQ-400CE 属于CE子系列(与400CE共享型号命名规范),KQ-400MSE 属于MSE子系列(功率型命名)。实际选型时可结合是否需要功率连续可调功能作出判断。

三档兆声频率的中批量应用配置

兆声频率空化特性在KQ-400MSE中的典型应用
0.5MHz空化强度适中,去污效率较高精密零件较大颗粒批量去除、光伏硅片前处理
1.0MHz精度与效率综合最优,应用最广6英寸晶圆批洗、光学基板、精密电子基板
1.7MHz最温和精细,纳米级处理能力高端光学元件、精密掩模版、超精密表面清洗

▲ 订购时根据主要清洗工件类型选定兆声频率,320mm方槽对6英寸级方形工件载具适配良好,是该容量段方形工件清洗的优选槽型。

400W超声功率的中批量清洗能力

KQ-400MSE配备的400W超声功率在15L容量中产生约26.7W/L的功率密度,与同系列方槽产品的功率密度水平一致,保证了中批量清洗效果的可靠性。400W功率通过均匀布置的换能器阵列在320×320mm的方形槽底面建立均匀兆声场,确保槽内各位置工件获得相当一致的兆声作用。对于中批量生产,声场均匀性是保证批内产品洁净度一致性的关键,方形槽体的四向对称声场分布特性配合均匀的换能器排布,为批内一致性提供了良好的硬件支撑。

与CE系列设计功率连续可调(0-100%)不同,KQ-400MSE采用固定额定功率输出,简化了操作设置,减少了生产操作中因功率设定错误带来的工艺风险,适合生产环境中对工艺参数稳定性要求更高、需要减少操作变量的应用场景。三档可选兆声频率配合固定功率,在保持足够工艺灵活性的同时,使生产工艺更加规范可控。电路及器件经过升级匹配,电功转换率高,无功损耗低,确保额定功率的长期稳定输出。

500W加热系统与温控精度

KQ-400MSE配备的500W加热系统对应15L容量,加热功率密度约33W/L,升温速度适中——约8-10分钟可将15L清洗液从室温加热至50℃工作温度。这一升温时间对于精密制造产线来说是可接受的准备时间,不会对生产节拍造成明显影响。温度设定范围室温至80℃,7寸触控屏提供精确的温度设定输入和实时温度监控,操作人员可以直观确认清洗液实际温度与设定目标温度的差值,确保清洗工艺始终在温度受控条件下进行。

温度控制对于兆声清洗效果的稳定性有重要影响。清洗液温度影响液体粘度,进而影响兆声波的传播速度和空化阈值;温度还影响清洗化学品的溶解活性和工件表面的化学反应速率。在中批量生产环境中,保持清洗液温度在设定值的稳定范围内,是确保批次间产品洁净度一致性的必要条件。KQ-400MSE的触控温控系统精确稳定,配合间歇脱气功能,为中批量生产提供了完整的工艺条件控制能力。

间歇脱气功能与中批量工艺管理

间歇脱气功能(1s-59min59s可调)在KQ-400MSE的中批量应用场景中发挥着工艺稳定性保障的作用。对于连续多批次生产,清洗液状态会随每次清洗而逐渐变化,溶解气体含量、化学品浓度、颗粒含量等参数都会发生漂移。通过在生产开始时执行标准化脱气程序,并在设定的批次间隔后再次脱气刷新,可以将清洗液状态维持在相对稳定的工艺窗口内,减少因清洗液状态漂移引起的产品洁净度波动,提高产品良率的批次稳定性。

中批量生产中的脱气管理建议:建议将班次开始脱气(5-8分钟)、每N批次后脱气刷新(2-5分钟)、清洗液更换后重新脱气(8-12分钟)等步骤纳入标准作业程序(SOP)。可利用9组程序存储,将不同情景下的脱气程序和生产清洗程序分别存储管理,通过程序编号调用实现操作标准化,减少对操作人员经验的依赖,提高工艺的可重复性和产线的管理效率。

7寸触控与9组程序的生产管理价值

KQ-400MSE的7寸TFT全彩触控屏为中批量生产操作提供了直观便捷的界面。生产环境中操作人员的注意力分配压力较大,简洁清晰的触控界面能够在最短时间内完成参数确认和设置变更。最长99小时59分钟的时间设定范围,即便是需要过夜浸泡处理的特殊工艺也能完整覆盖,设定一次无需中途干预,降低了对操作人员的值守要求。数显超温度、超电压、超电流多重保护系统,对中批量生产中可能出现的设备异常情况提供主动防护,在保护设备安全的同时避免因设备故障造成整批产品的损失。

9组程序存储在中批量生产中的价值体现在多产品类型的快速切换能力上。中小型精密制造企业通常同时生产多种不同规格和类型的产品,每种产品对应特定的清洗工艺参数组合。将各产品的标准清洗程序分别存入程序组,操作人员换产时只需选择对应程序编号启动,避免了手动输入参数的繁琐和潜在错误,实现了清洗工序的标准化和产线换型的快速响应。这对于多品种、中批量精密制造的柔性生产管理具有实际价值。

典型应用场景

6英寸晶圆清洗:清洗6英寸晶圆及其标准装载载具,320mm方槽对6英寸圆晶圆载具的容纳适配良好,兆声波实现亚微米颗粒高效去除。

中尺寸光学基板:清洗200-300mm规格的光学玻璃基板、光学晶体片,方形槽对方形基板的适配效率高,批内洁净度一致性好。

精密电子封装基板:中批量清洗BGA封装基板、多层陶瓷基板,去除焊接残留、研磨颗粒和化学污染,提升封装良率。

MEMS器件中试:从实验室研究向中试生产过渡阶段的MEMS晶圆精密清洗,处理量介于实验室单片与大批量产线之间。

精密光学滤光片:中批量清洗各类光学滤光片、分光镜、激光反射镜等,1.7MHz频率选项保护精密镀膜,1.0MHz高效去除颗粒污染。

LED外延片处理:LED芯片制造工序中的外延片精密清洗,去除外延生长工艺后的颗粒和化学残留,提高芯片量产良率。

精密传感器批量:压力传感器、流量传感器、加速度传感器等精密传感器的中批量制程清洗,兆声温和处理保护精密敏感结构。

硬盘零部件:中批量清洗硬盘盘片、读写头支架等精密存储介质零部件,纳米级颗粒去除防止存储可靠性故障。

KQ-400MSE以320×320mm方槽和15L容量,在科研实验室与产业大批量之间建立了有价值的中间档位,满足了精密制造中规模适中的批量清洗需求。方槽均匀声场保证批内洁净度一致性,中批量容量兼顾效率与灵活性,兆声精密实现纳米级颗粒去除,间歇脱气维持工艺条件稳定,程序管理支持多品种切换生产。对于中小型精密制造企业,KQ-400MSE是均衡高效的专业选择

操作使用与工艺实施建议

KQ-400MSE在生产环境中的操作建议:设备应放置在通风良好的专用清洗工位,使用专用电源回路(建议16A独立回路)。首次使用前,根据主要生产产品类型建立并验证清洗程序,将经过工艺验证的参数(温度、时间、脱气设定)存入对应程序组。日常生产前执行班次开始脱气程序,达到清洗工作温度后方可开始批量清洗,避免冷液直接开始清洗导致的温度波动影响工艺效果。

工件放置时使用专用载具或不锈钢托架,确保工件在槽内位置稳定均匀。对于需要精确追溯的产品,建议建立每批次清洗记录(程序编号、实际温度、批次数量、操作人员等),与产品追溯体系关联,满足精密制造质量管理的记录要求。定期对清洗液状态进行评估(颗粒含量、化学品浓度等),根据评估结果决定是否需要更换清洗液,维持稳定的清洗工艺窗口

选择KQ-400MSE的理由

KQ-400MSE兆声波清洗机以320×320mm中型方形槽体、15L容量、0.5/1.0/1.7MHz可选单频兆声频率、400W超声功率、500W加热系统、间歇脱气功能、7寸TFT触控操作和9组程序存储,为精密制造中批量应用场景提供了均衡专业的兆声波清洗解决方案。设备在保留科研级设备全部精密功能的基础上,以适中的容量和合理的设备尺寸,实现了从实验室到产线的自然过渡,是中小型精密制造企业、研发中试产线的理想配置。

选择KQ-400MSE,就是选择在中批量规模上实现纳米级精密清洗的专业方案。设备配备完整的技术文档和工艺指导材料,提供专业的安装调试支持和持续的售后技术服务。欢迎访问官方网站了解兆声波清洗系列完整产品信息,或联系我们的技术专家获取工艺方案咨询、选型建议和产线集成设计支持,让KQ-400MSE成为您精密制造工序中的可靠清洗保障!

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